半導体 / マイクロエレクトロニクス / ナノエレクトロニクス

[半導体マスクライター]　[マスクレス露光装置]

高い重ね合わせ精度と精密で高速な描画性能により、最先端の半導体デバイス製造で使われる異相シフトマスクの製造や、モバイル通信機器・IoT・そして車載向け半導体用で使われるバイナリマスクの製造コストを大幅削減。また、世界をリードする科学者や研究開発者と共に長年培ってきた充実したアプリで各種デバイスを直接ウエーハ等にパターニングする事で、研究開発の効率を大幅にアップします。
通常のパターン描画のみならず、狙った箇所への電極形成やリペア処理など、使い方も様々。
お手持ちの電子線描画装置との共用も可能です。スキャニング露光方式は、付加価値の高いデバイスのフレキシブル生産にも多用されています。

MEMS

[マスクレス露光装置]

独自のオートフォーカス機能は、MEMS製造に求められる厚膜レジストへの露光を容易に実現します。
100μｍを超える厚膜レジストの側壁角度を制御することも可能です。裏面アライメントマークに合わせての露光機構もオプションでご提供します。

フラットパネルディスプレイ

[マスクレス露光装置]

グレースケール露光による厚膜レジストへの精密三次元加工は、切削では 実現が困難な大面積射出成形用金型やインプリント用金型の作製を可能にします。すでに、大型導光板の製造プロセスでご利用頂いております。
高出力レーザ光源搭載のHPタイプは、フラットパネル用大面積マスク作製用途に最適です。 すでに、タッチパネル向け露光原版の製造に用いられています。

オプトエレクトロニクス LED

[マスクレス露光装置]

LED等の発光デバイスで使用されることが多い透明で反りが大きい基板であっても、確実にオートフォーカスをかけることができ、安定した露光が実現できます。また、研究開発段階での分割した不定形基板にも対応可能です。

バイオ マイクロTAS

[マスクレス露光装置]

トライ・アンド・エラーが必要となるマイクロ流体デバイスの開発用途でマスクアライナ用のフォトマスク作製装置として、多くの大学・研究機関でご利用頂いております。
もちろん、厚膜永久レジストへの直接描画も可能。高アスペクト比のパターン形成を実現します。